晶圆甩干-微纳加工平台

曾老师 15018420573

曾老师 15018420573 广州市天河区长兴路363号

工艺能力

PROCESS CAPABILITY

镀膜工艺

磁控溅射电子束蒸发金属电子束蒸发 ITO电子束蒸发热阻蒸发 PECVD LPCVD ALD沉积铜电镀台

一、信息详情：

设备名称：单腔甩干机

设备型号：DSG05D

设备厂商：无锡市奥曼特科技有限公司

工作原理：主要基于离心力和气体吹扫的结合，通过高速旋转和气流作用实现晶圆表面的高效干燥。

用途：主要用于硅晶圆、蓝宝石、玻璃等晶圆清洗后快速去除晶圆表面的水分，避免水痕和污染。

二、技术性能指标：

1.适用于2、4、6英寸晶圆的甩干

2.单次甩干数量为25片

3.旋转转速：0-2400R/min

4.氮气加热温度为80℃

5.氮气压力为2-3bar

版图设计-电子束曝光-紫外光刻深硅刻蚀-ICP刻蚀-IBE刻蚀
电子束蒸发-磁控溅射-热阻蒸发-LPCVD镀膜晶圆键合-快速退火-晶圆切割-CMP抛光

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深硅刻蚀-ICP刻蚀-IBE刻蚀

电子束蒸发-磁控溅射-热阻蒸发-LPCVD镀膜

晶圆键合-快速退火-晶圆切割-CMP抛光