等离子体去胶-微纳加工平台

镀膜工艺

磁控溅射电子束蒸发金属电子束蒸发 ITO电子束蒸发热阻蒸发 PECVD LPCVD ALD沉积铜电镀台

一、信息详情：

设备名称：等离子去胶机

设备型号：PT-5S

设备厂商：深圳三和波达机电科技有限公司

工作原理：真空状态下，等离子作用在控制和定性方法下能够电离气体,利用真空泵将工作室进行抽真空达到30-40pa 的真空度，再在高频发生器作用下，将气体进行电离，形成等离子体。

用途：表面亲水性、拒水性、低摩擦、高度清洁、激活、蚀刻等各种表面改性。半导体工艺中主要用于光刻胶底膜去除。

二、技术指标：

1. 等离子射频频率为40KHZ，射频功率为200W，功率连续可调

2. N2、O2双路气体输入，气体流量109-100mL/min可调

3. 清洗时间1-6000秒可调

4. 真空度:30Pa-100Pa

5. 内腔尺寸：直径150mm×270mm

工 艺 能 力