激光直写-微纳加工平台

镀膜工艺

磁控溅射电子束蒸发金属电子束蒸发 ITO电子束蒸发热阻蒸发 PECVD LPCVD ALD沉积铜电镀台

一、信息详情：

设备名称：激光直写光刻机

设备型号：MiScan 200

设备厂商：苏州苏大维格光电

工作原理：根据计算机图形数据文件，对光刻胶等近紫外感光材料进行直写曝光或在其他光刻基板上进行图形化直写。

二、技术性能指标：

1. LD 固体激光器 405nm±10nm波长

2. 样品尺寸：8英寸及以下,支持规则或不规则形状的基底; 包括 Si、SiN、GaAs、InP、SiC 等透明、半透明、不透明基底

3. 分辨率＞600nm ，采用空间光调制器频闪扫描曝光/ 连续光曝光

4. 可支持厚光刻胶曝光、支持二次重复对准曝光

5. 支持文件格式：GDSII、BMP

工 艺 能 力