金属电子束蒸发-微纳加工平台

镀膜工艺

磁控溅射电子束蒸发金属电子束蒸发 ITO电子束蒸发热阻蒸发 PECVD LPCVD ALD沉积铜电镀台

一、信息详情：

设备名称：金属电子束蒸发台

设备型号：Peva-600E

设备厂商：台湾聚昌

工作原理：电子束斑聚焦到蒸发材料表面，使局部达到蒸发或升华温度，蒸发出来的原子沉积在基片表面，形成致密的金属薄膜。

用途：蒸发Ti，Al，Ni，Cr，Pt，Au，Ag等金属。

二、技术性能指标：

1.样品尺寸：67*2英寸、20*4英寸、7*6英寸

2.基板加热温度：室温-250℃，控温精度1℃

3.极限真空：2×10-7 torr

4.蒸发均匀性：<±5%

5.一炉可以依次蒸镀6钟不同金属；

6.可以蒸镀高熔点金属Pt、W等

工 艺 能 力