ITO电子束蒸发-微纳加工平台

曾老师 15018420573

曾老师 15018420573 广州市天河区长兴路363号

工艺能力

PROCESS CAPABILITY

镀膜工艺

磁控溅射电子束蒸发金属电子束蒸发 ITO电子束蒸发热阻蒸发 PECVD LPCVD ALD沉积铜电镀台

一、信息详情：

设备名称：ITO电子束蒸发台

设备型号：Peva-600I

设备厂商：台湾聚昌

工作原理：电子束斑聚焦到介质材料表面，使局部达到蒸发或升华温度，蒸发出来的原子沉积在基片表面，同时增加离子源辅助沉积，实现高密度、高折射率的光学薄膜。

用途：蒸发透明导电薄膜ITO。

二、技术性能指标：

1.样品尺寸：102*2英寸、21*4英寸、12*6英寸

2.基底刻蚀温度：室温-350℃可调，控温精度1℃

3.极限真空：2×10-7 torr

4. 蒸发均匀性：<±5%

版图设计-电子束曝光-紫外光刻深硅刻蚀-ICP刻蚀-IBE刻蚀
电子束蒸发-磁控溅射-热阻蒸发-LPCVD镀膜晶圆键合-快速退火-晶圆切割-CMP抛光

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版图设计-电子束曝光-紫外光刻

深硅刻蚀-ICP刻蚀-IBE刻蚀

电子束蒸发-磁控溅射-热阻蒸发-LPCVD镀膜

晶圆键合-快速退火-晶圆切割-CMP抛光