返回首页
CLASS 100 / 1000 / 10000 ULTRA CLEAN LABORATORY

百级/千级/万级超净实验室

5000平米研发基地

完整的半导体工艺链

退火工艺

咨询热线:曾工 15018420573(微信同号)

邮箱:zengzhaohui@gdisit.com

快速退火炉

设备名称:快速退火炉

设备型号:RTP150

设备厂商:台湾技鼎

工作原理:快速退火炉是一种材料快速加热到一定温度并维持一定时间,然后再快速降温。

用途:应用于半导体材料、器件、新材料等的快速热处理,如快速退火、合金等工艺。

技术性能指标

1.样品尺寸:6英寸及以下

2.退火温度: 100-850℃可调,控温精度1℃

3.温度均匀性:850℃下,6英寸晶圆≤±1%

4.反应气氛:真空、N2、O2、空气