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工艺能力-测试设备

发布时间:2024年04月10日来源:广东省科学院半导体研究所

1台阶仪

一、信息详情:

设备名称:台阶仪

设备型号:DektakXT

设备厂商:德国Bruker

工作原理:当触针沿被测表面轻轻滑过时,由于表面有微小的峰谷使触针在滑行的同时,还沿峰谷作上下运动。触针的运动情况就反映了表面轮廓的情况。

用途:用于半导体、MEMS等领域晶圆或者器件台阶形貌的测量分析

二、技术性能指标:

1.扫描长度: 50µm-55mm

2.垂直测量范围: 1mm

3.台阶高度重现性5Å, 1σ 1µm台阶上

4.垂直分辨率:最大6.5µm范围)

5.探针压力:115mg 最小可达0.03mg

6.探针曲率半径:0.2 μm 2μm

7.样品台尺寸:8英寸往下兼容

三、联系方式:

曾工15018420573(微信同号)邮箱:zengzhaohui@gdisit.com



2、非接触式光学轮廓仪

一、信息详情:

设备名称:非接触式光学轮廓仪

设备型号:ContourX-200

设备厂商:德国Bruker

工作原理:特定波长的光在双光束干涉物镜中,经过分光板被分成两束光,一束光照 射到参照物表面,另一束光照射样品表面,这样得到的两束反射光在相机上成像。将样品表面的凹凸不平引起的光程差所获得的干涉条纹信息转换成高度信息,生成3D图像。

用途:用于半导体、MEMS等领域晶圆或者器件三维微观形貌的测量分析

二、技术性能指标:

1.垂直分辨率:<0.01nm RaRMS重现性:0.01nm

2.垂直方向单次测量量程:≥10mm

3.台阶测试精度:≤0.75%8µm以上的台阶高度测试准确性)

4.配备自动样品台:XY移动范围≥150mm×150mm;带自动缝合拼接功能

5.CCD相机:像素≥500

6.深孔和深槽测量能力:可测量10:1高深比的的孔和30:1高深比的槽

三、联系方式:

曾工15018420573(微信同号)邮箱:zengzhaohui@gdisit.com




3、光学显微镜

一、信息详情:

设备名称:光学显微镜

设备型号:DM 4000 M LED

设备厂商:徕卡

工作原理:光学显微镜是利用光学原理,通过目镜和物镜将微观的图形进行放大,以便进行观察。

用途:用于通过目镜或者软件观察器件表面形貌

二、技术性能指标:

1.目镜固定倍率X10,物镜可以最大X100

2.可进行明场和暗场观察

3.可对图形进行尺寸分析

4.样品台尺寸: 6英寸往下兼容

三、联系方式:

曾工15018420573(微信同号)邮箱:zengzhaohui@gdisit.com